PET基底磁控共溅射SIOX-(DCPD/MA)F阻隔薄膜的研究 简介
PVD法制备的SiOx阻隔薄膜存在大量裂纹、针孔等缺陷并且在使用过程中易脆裂,本书针对此问题,通过磁控共溅射有机高分子环氧树脂靶材(顺丁烯二酸酐固化二氧化环氧戊二烯-DCPD/MA)与陶瓷SiO2靶材,制备SiOx-(DCPD/MA)f复合高阻隔薄膜,在SiOx阻隔膜层中引入有机高分子柔性链碎片,增加阻隔层的韧性,提高薄膜耐折性。制备SiOx-(DCPD/MA)f薄膜过程中,通过Ar离子轰击DCPD/MA将其解离成柔性的包含自由基的不饱和高分子链段碎片,与Ar离子轰击SiO2形成的含有Si悬挂键粒子键合成复合薄膜。采用质谱监测技术实施等离子放电特性诊断,通过获得单独分别溅射DCPD/MA与SiO2等离子体气氛中物质组成,进而研究了共溅射等离子气氛中粒子间的化学反应路径。
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